Molecular Imprints erhält Auftrag für fortschrittliche Lithografieausrüstung und Wafer-Patterning-Dienste und unterstützt damit die Initiative des Global 450 mm Consortium (G450c)

Molecular Imprints erhält Auftrag von führendem
Chiphersteller für erstes 450 mm-Lithografie-System

Molecular Imprints, Inc., der Markt- und Technologieführer in
Nano-Patterning [http://www.molecularimprints.com ]-Systemen und
-Lösungen gab heute bekannt, dass dem Unternehmen ein Auftrag von
einem führenden Chiphersteller erteilt wurde, das branchenweit erste
450mm [http://www.molecularimprints.com ]-fähige Lithografie
[http://www.molecularimprints.com ]-System zu bauen. Der Auftrag
umfasst einen mehrjährigen Vertrag für Wafer-Patterning-Dienste und
die Option für zusätzliche Nano-Imprint-Anlagen von 450 mm. Die
firmeneigene Technologie Jet and Flash(TM) Imprint Lithography
[http://www.molecularimprints.com ] (J-FIL(TM)) und die kommerzielle
Verfügbarkeit von hochqualitativen Imprint
[http://www.molecularimprints.com ]-Masken waren die entscheidenden
Faktoren bei der Auswahl von Molecular Imprints als Grundpfeiler für
die Branche beim Ãœbergang zu Wafern von 450 mm.

(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

„Die Versorgungskette der Hersteller von Halbleitern und
Halbleiteranlagen muss frühen Zugang zu hochqualitativen,
vollstrukturierten Wafern von 450 mm haben, um Produkte und Prozesse
rechtzeitig für diesen Übergang optimieren zu können. Zusätzlich zu
den grösseren Substratpartikeln müssen immer kleiner werdende
Bausteine auf dem Wafer weit genug in die Zukunft reichen, damit sie
als Instrument für OEMs und zur Verfahrensentwicklung von Nutzen
sind“, so Mark Melliar-Smith, President und CEO von Molecular
Imprints. „Unsere J-FIL(TM) Technologie ist die momentan einzig
verfügbare lithografische Lösung, die für den Übergang auf 450 mm die
umfangreichen Anforderungen erfüllt. Wir freuen uns, dass wir mit
unseren Fähigkeiten zu einem rechtzeitigen Übergang auf 450 mm
entsprechend der erforderlichen Designvorschriften beitragen können.“

Da die optische 193i-Lithografie schon gezwungen ist, komplexe
Mehrfachstrukturierungsverfahren zur Fertigung der heutigen
Halbleiter anzuwenden, und aufgrund der nur schwer vorstellbaren
Eignung von EUV, war es keine Ãœberraschung, dass man sich der
J-FIL-Technologie von MII zum Ãœbergang auf 450 mm bediente. J-FIL hat
eine 24-nm-Strukturierung mit einer bemerkenswerten Kantenrauigkeit
(< 2 nm LER, 3 Sigmas) sowie eine Critical Dimension Uniformity (1,2
nm CDU, 3 Sigmas) bewiesen und kann unter Zuhilfenahme eines
einfachen einzelnen Strukturierverfahrensschritts auf unterhalb 18 nm
erweitert werden. Die Gesamtbetriebskostenvorteile von J-FIL, die
durch die Vermeidung von Energie verschlingende Röntgenlichtquellen,
komplexen optischen Linsen und Spiegeln sowie noch zu entwickelnden
ultrasensitiven Fotolacken erreicht werden, bestätigen die gute
Konformität dieses Verfahrens mit dem zugrunde liegenden
Produktivitätsbeweggrund der 450-mm-Initiative.

Molecular Imprints wird als Teil dieser 450-mm-Auftragsvergabe
die Lithografieanlage und darauffolgend zu Beginn der zweiten Hälfte
des nächsten Jahres Wafer-Dienstleistungen zur Verfügung stellen. Der
fünfjährige Vertrag für Wafer-Services fordert die Lieferung von
Tausenden vollstrukturierten Wafern mit 450 mm an das G450D
Consortium mit der Kaufoption von gegebenenfalls zusätzlichen J-FIL
Imprint-Anlagen.

Ãœber Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) ist der Technologieführer für
hochauflösende Nano-Patterning-Systeme und -Lösungen bei niedrigen
Gesamtbetriebskosten für die Halbleiter- und Festplattenlaufwerk
(HDD)-Industrie. MII nutzt seine Jet and Flash(TM) Imprint
Lithography (J-FIL(TM)) -Technologie unter Verwendung des Materials
IntelliJet(TM), um weltweiter Markt- und Technologieführer in
Patterning-Lösungen der Grossserie für Storage- und Speichergeräte zu
werden und gleichzeitig den aufstrebenden Märkten in Display,
erneuerbaren Energien, Biotechnologie und anderen Industrien zu
helfen. MII ermöglicht Nanostrukturierung durch die Bereitstellung
einer umfassenden Lösung mit Nano-Patterning, die kostengünstig,
kompatible und auf eine Auflösung von weniger als 10 Nanometer
erweiterbar ist. Für weitergehende Information, oder um uns auf
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Paul Hofemann
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